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SUMMARY:(20261124A-8) Intellectual Property Essentials – Marken-, Design- und Patentrecht
LOCATION:AWAK - LeopoldQuartier - Raum "Minerva" (1020 Wien, Obere Donaustraße 25/1/1)
X-ALT-DESC;FMTTYPE=text/html:<p><strong>Dienstag, 24. November​ 2026</strong></p><p><strong><span style="font-size:11pt">(09.30-13.00)&nbsp;</span></strong></p><p><strong>HOFMARCHER&nbsp;</strong></p><ul><li>Von der Idee zum Schutz</li><li>Grundz&uuml;ge des Gesch&auml;ftsgeheimnisschutzes und &Uuml;bersicht &uuml;ber die Immaterialg&uuml;terrechte</li></ul><p>&nbsp;</p><p><strong>Mittwoch, 25. November 2026</strong></p><p><strong>(09.00-17.00)</strong></p><p><strong>HOFMARCHER&nbsp;</strong></p><ul><li>Markenschutz in der Praxis,</li><li>Markenschutz national und international unter Ber&uuml;cksichtigung angrenzender Rechtsgebiete,</li><li>Schutzvoraussetzungen und -hindernisse,</li><li>Eintragungsverfahren, Clearance vor Einf&uuml;hrung einer neuen Marke,</li><li>Schutzumfang und Rechtsdurchsetzung,</li><li>Aktuelle Judikatur der europ&auml;ischen und &ouml;sterreichischen Instanzen</li></ul><p>&nbsp;</p><p><strong>HOFSTETTER</strong></p><p><strong>Musterrecht</strong></p><ul><li>&Uuml;berblick</li><li>Schutzbereich</li><li>Schutzvoraussetzungen</li><li>Erg&auml;nzung zu Schutzbereich</li><li>Weitere Bestimmungen</li><li>Anspr&uuml;che bei Musterrechtsverletzung sowie Angriffsm&ouml;glichkeiten gegen ein registriertes Muster</li><li>Anmeldung und Registrierung</li><li>Weitere Aspekte</li></ul><p><strong>Patentrecht</strong></p><ul><li>Wozu Patente? Zeitlich befristetes Ausschlie&szlig;ungsrecht</li><li>Arten von Patentanspr&uuml;chen</li><li>&Uuml;bung: Merkmalsanalyse</li><li>Verletzungsverfahren und Verteidigungsm&ouml;glichkeiten</li><li>Schutzvoraussetzungen</li><li>Weitere Aspekte</li><li>Einheitspatent(-gericht)</li><li>Gebrauchsmuster und beispielhafte/s Patentanmeldung/Patent</li><li>H&auml;ufige Anliegen und Fragen von Mandanten</li><li>Miteinander von RA und PA</li></ul><p><br />Diskussion &uuml;ber ausgew&auml;hlte Themen zum Patent- und Musterrecht</p>
PRIORITY:3
END:VEVENT
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SUMMARY:(20261124A-8) Intellectual Property Essentials – Marken-, Design- und Patentrecht
LOCATION:AWAK - LeopoldQuartier - Raum "Minerva" (1020 Wien, Obere Donaustraße 25/1/1)
X-ALT-DESC;FMTTYPE=text/html:<p><strong>Dienstag, 24. November​ 2026</strong></p><p><strong><span style="font-size:11pt">(09.30-13.00)&nbsp;</span></strong></p><p><strong>HOFMARCHER&nbsp;</strong></p><ul><li>Von der Idee zum Schutz</li><li>Grundz&uuml;ge des Gesch&auml;ftsgeheimnisschutzes und &Uuml;bersicht &uuml;ber die Immaterialg&uuml;terrechte</li></ul><p>&nbsp;</p><p><strong>Mittwoch, 25. November 2026</strong></p><p><strong>(09.00-17.00)</strong></p><p><strong>HOFMARCHER&nbsp;</strong></p><ul><li>Markenschutz in der Praxis,</li><li>Markenschutz national und international unter Ber&uuml;cksichtigung angrenzender Rechtsgebiete,</li><li>Schutzvoraussetzungen und -hindernisse,</li><li>Eintragungsverfahren, Clearance vor Einf&uuml;hrung einer neuen Marke,</li><li>Schutzumfang und Rechtsdurchsetzung,</li><li>Aktuelle Judikatur der europ&auml;ischen und &ouml;sterreichischen Instanzen</li></ul><p>&nbsp;</p><p><strong>HOFSTETTER</strong></p><p><strong>Musterrecht</strong></p><ul><li>&Uuml;berblick</li><li>Schutzbereich</li><li>Schutzvoraussetzungen</li><li>Erg&auml;nzung zu Schutzbereich</li><li>Weitere Bestimmungen</li><li>Anspr&uuml;che bei Musterrechtsverletzung sowie Angriffsm&ouml;glichkeiten gegen ein registriertes Muster</li><li>Anmeldung und Registrierung</li><li>Weitere Aspekte</li></ul><p><strong>Patentrecht</strong></p><ul><li>Wozu Patente? Zeitlich befristetes Ausschlie&szlig;ungsrecht</li><li>Arten von Patentanspr&uuml;chen</li><li>&Uuml;bung: Merkmalsanalyse</li><li>Verletzungsverfahren und Verteidigungsm&ouml;glichkeiten</li><li>Schutzvoraussetzungen</li><li>Weitere Aspekte</li><li>Einheitspatent(-gericht)</li><li>Gebrauchsmuster und beispielhafte/s Patentanmeldung/Patent</li><li>H&auml;ufige Anliegen und Fragen von Mandanten</li><li>Miteinander von RA und PA</li></ul><p><br />Diskussion &uuml;ber ausgew&auml;hlte Themen zum Patent- und Musterrecht</p>
PRIORITY:3
END:VEVENT
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